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當(dāng)前位置:工業(yè)爐 > 熱處理爐 > 退火爐 >
簡介:退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個(gè)半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對(duì)不同的效果而設(shè)計(jì)的。可以加熱晶片以激活摻雜劑,將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態(tài),修復(fù)注入的損傷,移動(dòng)摻雜劑或?qū)诫s劑從一個(gè)薄膜轉(zhuǎn)移到另一個(gè)薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。

熱處理爐 / 退火爐產(chǎn)品中心

結(jié)構(gòu)原理圖
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